匀胶匀胶机是一种常见用于材料薄膜制备工艺的实验室设备，它的原理相对比较简单，利用电机高速旋转时所产生的离心力使得试液或者胶液均匀地涂敷在基底材料的表面，顾名思义，一种可以“让胶液均匀涂敷的机器”。
 

　　按自动化程度可分为：
 

　　a)自动匀胶设备；b)半自动匀胶设备。
 

　　2按有无烘干方式分为：
 

　　a)带烘干装置的匀胶设备；b)不带烘干装置的匀胶设备。
 

　　3按加工基片几何形状可分为：
 

　　a)圆片匀胶设备；b)方片匀胶设备。
 

　　匀胶匀胶机的工艺特点要求硅片在托盘真空吸力的作用下随主轴一起高速旋转，因此匀胶托盘的几何参数将对被吸附的硅片形变产生一定的影响，而过大的硅片形变将影响其表面形貌和平面度，从而影响光刻胶的均匀性。通过数值解和解析解，指出随着匀胶膜厚的变薄，其受表面形貌的影响将增大；通过数学模型和计算机模拟分析了离心转数等参数对旋涂性能的影响规律，并通过实验分析指出基底不平将直接导致涂胶均匀性变差，从而使集成电路芯片显影后线条黑白比改变。

 

　　控制和显示：
 

　　1.非常方便设定处理速度和加速度程序段；可设置顺序循环控制；
 

　　2.显示精度控制在设定值的0.006%以内；
 

　　3.操作者可随时随地自由实现人机交互。
 

　　匀胶匀胶机既然是科研开发上制备薄膜材料*的方法之一使用者对于该设备大的期待就在于其能够“均匀”地涂敷试液或者胶液。通常我们会用均一性和可重复性来衡量薄膜材料制备的好坏。
 

　　匀胶匀胶机产品特点：
 

　　*采用闭环控制伺服电机，数字式增速信号反馈，速匀准确，寿命长，保证匀胶均匀。
 

　　*5寸全彩触摸屏，智能程序化可编程操控显示，标配10个匀胶梯度阶段(速度和时间梯度设置)，可选配10个可编程程序，每个程序下可设置10个匀胶梯度阶段，最多100个阶段。
 

　　*内置水平校准装置，限度的保证旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂。
 

　　*多重安全保护
 

　　电磁安全开关，盖子打开卡盘停止，保证安全；
 

　　盖子自锁功能，防止飞片盖弹开伤人；
 

　　双重安全上盖，聚四氟嵌镶钢化玻璃，避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人，限度保证实验人员安全。
 

　　*一机两用，根据不同样品可选真空吸盘和非真空卡盘两种旋涂模式。
 

　　*不锈钢喷塑涂层旋涂壳体，PTFE旋涂腔体，聚丙烯(NPP-H)旋涂托盘，PTFE嵌镶钢化玻璃上盖，耐酸碱防腐蚀，保证仪器在苛刻条件下仍能正常运行。
 

　　*适用硅片、玻璃、石英、金属、GaAs，GaN，InP 等多种材料。