在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。我们公司自主研发生产的等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。等离子清洗器现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。

　　国产系列等离子清洗机是在国外等离子清洗价格贵，难以推广等缺点的基础上，吸取了现有国内外等离子清洗的优点，结合国内用户的使用需求，采用先进科技手段开发出的新型系列等离子清洗器。一般来说国产配置的等离子清洗机其性能已经能够达到一些工件的处理要求了。如果是要求相当高的，比如说产品工件本身成本就非常昂贵的，或者说产品工件本身对质量要求非常苛刻的，可以选用进口等离子设备的配置。该产品除拥有其它等离子清洗机的优点外，更具有性能稳定、性价比高、清洗效率高、操作简便、使用成本极低、易于维护的优点。产品能适应不同用户对设备的特殊要求。清洗舱的材料有耐热玻璃和不锈钢可选择，不锈钢类清洗舱有圆形和方形可选择。仪器性能、整机规格和清洗舱的尺寸可根据用户的实际需要而特制。

　　低温等离子处理机的等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成。是物质的第四态。

　　通常情况下，人们普遍认为的物质有三态：固态、液态、气态。区分这三种状态是靠物质中所含能量的多少。气态是物质的三个状态中zui高的能量状态 。

　　给气态物质更多的能量，比如加热，将会形成等离子体。当到达等离子状态时，气态分子裂变成了许许多多的高度活跃的粒子。这些裂变不是*的，一旦用于形成等离子体的能量消失，各类粒子重新结合，形成原来的气体分子。

　　利用低温等离子体处理技术在本世纪六十年代起就开始应用于化学合成、薄膜制备、表面处理和精细化工等领域，在大规模或超大规模集成电路工艺干法化、低温化方面，在近年来也开发应用了等离子体聚合、等离子体蚀刻、等离子体灰化及等离子体阳极氧化等全干法工艺技术。等离子清洗机技术也是工艺干法化的进步成果之一。

　　与湿法清洗不同，等离子清洗的机理是依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。从目前各类清洗方法来看，可能等离子体清洗也是所有清洗方法中zui为*的剥离式的清洗。目前就国内来说等离子清洗这一运用还是相当的普遍的了。特别是近几年，随着等离子电视，等离子切割机等等，这些高科技产品的不断衍生，等离子这个高科技技术已经和我们的工业产品有着很密切的关系了。

　　利用等离子设备来开封封装元件使内部的组件暴露出来。通过开封打开元件后可以分析裸片、内部连接或其他特征，尤其适用于失效分析中。元件失效分析通常依靠选择性的刻蚀掉封胶聚合物而不影响邦定的金属丝和元件表层。这可以通过使用微波等离子设备来清洁和去除封胶材料。使用等离子工艺时，等离子清洗机的刻蚀性能具有高选择性，不会影响内部连接。