匀胶机

简要描述：Spin Coater匀胶机进行滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心，滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速（通常在500转/分左右）旋转的同时进行滴胶，“动态"的作用是让光刻胶容易在基片上铺展开，减少光刻胶的浪费，采用动态滴胶不需要很多光刻胶就能润湿（铺展覆盖）整个基片表面。尤其是当光刻胶或基片本身润湿性不好的情况下，动态滴胶尤其适用，不会产生针孔。

产品型号：CIF Spin Coater
厂商性质：生产厂家
更新时间：2024-10-25
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CIF材料表面处理仪器

RIE反应离子刻蚀机 CIF等离子清洗机 CIF实验室注射泵透射电镜样品杆真空存储仪 CIF烤胶机 CIF匀胶机 CIF紫外臭氧清洗机 CIF透射电镜样品杆清洗机 CIF电镜等离子清洗机 CIF粉体等离子清洗机

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详细介绍

品牌	CIF	价格区间	10万-30万
产地类别	国产	应用领域	医疗卫生,环保,食品,化工,农业

　　CIF-Spin Coater匀胶机进行滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心，滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速（通常在500转/分左右）旋转的同时进行滴胶，“动态”的作用是让光刻胶容易在基片上铺展开，减少光刻胶的浪费，采用动态滴胶不需要很多光刻胶就能润湿（铺展覆盖）整个基片表面。尤其是当光刻胶或基片本身润湿性不好的情况下，动态滴胶尤其适用，不会产生针孔。

Spin Coater

　　滴胶之后，下一步是高速旋转。使光刻胶层变薄达到要求的膜厚，这个阶段的转速一般在1500-6000转/分，转速的选定同样要看光刻胶的性能（包括粘度，溶剂挥发速度，固体含量以及表面张力等）以及基片的大小。快速旋转的时间可以从10秒到几分钟。匀胶的转速以及匀胶时间往往能决定胶膜的厚度。

　　一般来说，匀胶转速快，时间长，膜厚就薄。影响匀胶过程的可变因素很多，这些因素在匀胶时往往相互抵销并趋于平衡。所以建议给予匀胶过程以足够的时间，让诸多影响因素达到平衡。

　　Spin Coater匀胶机产品特点：

　　1.采用闭环控制伺服电机，数字式增速信号反馈，速匀准确，寿命长，保证匀胶均匀。

　　2.5寸全彩触摸屏，智能程序化可编程操控显示，标配10个匀胶梯度阶段(速度和时间梯度设置)，可选配10个可编程程序，每个程序下可设置10个匀胶梯度阶段，多100个阶段。

　　3.内置水平校准装置，大限度的保证旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂。

　　4、多重安全保护

　　电磁安全开关，盖子打开卡盘停止，保证安全；盖子自锁功能，防止飞片盖弹开伤人；双重安全上盖，聚四氟嵌镶钢化玻璃，避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人，大限度保证实验人员安全。

　　5.一机两用，根据不同样品可选真空吸盘和非真空卡盘两种旋涂模式。

　　6.不锈钢喷塑涂层旋涂壳体，PTFE旋涂腔体，聚丙烯(NPP-H)旋涂托盘，PTFE嵌镶钢化玻璃上盖，耐酸碱防腐蚀，保证仪器在苛刻条件下仍能正常运行。

　　7.匀胶机适用硅片、玻璃、石英、金属、GaAs，GaN，InP 等多种材料。

　　CIF-Spin Coater匀胶机技术参数：

型号	转速（转/分）	转速稳定度	匀胶时间	旋涂基片尺寸mm	外型尺寸（LxWxH）mm
SC1	50-10000	±1％	0-2000S	圆片Φ5-Φ100,方片大100x100	310x260x250

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