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简要描述:英国Ossila Spin Processor,操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。可对大小不同规格的基材都可进行旋涂,尤其是对超薄样品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到完美的旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬
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英国Ossila Spin Processor
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